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产品名称：PMX2000系列光掩模处理设备
PMX2000系列设备，是REC公司面向光掩模行业推出的湿法工艺设备。
该系列设备可实现90纳米～22纳米工艺节点的光掩模处理，包括：显影、蚀刻、去胶、清洗。 设备设置灵活、自动化程度高。
有意向可联系：13775645207（钱美琪）
PMX2000系列光掩模处理设备具有下列特点
•设备尺寸：2070X1650 X 2200mn;
•主轴伺服电机驱动，转速0～3000rpm,角度定位精度0.1°。
•升降伺服电机驱动，可实现0.1mm定位精度。
•可配置两个工艺臂，每个工艺臂由步进电机驱动，定位精度0.1mm。
•系统液路全部采用铁氟隆管道和部件.确保机器优良洁净度。
•上腔体锥形结构，有效的避免飞溅造成的二次污染。
•中腔体中倒锥形挡流板设计，保空体内垂直气场，提高显影、蚀刻均匀性。
•腔体上方配有集成翻转机构，可实现光掩模自动双面清洗。
•腔体内部设有清洗喷嘴，能实现腔体的自动清洗。
•可配备机槭手和SMIF标准装卸器，可实现自动装卸掩模3，
•可配置172nm紫外处理单元，实现UV清洗工艺功能。