常州瑞择微电子科技有限公司（REC）成立于2008年，位于常州市国家高新区国家级孵化器三晶工业园内，是常州市政府首批从海外引进并拥有自主知识产权的领军型高科技企业，是集科研、生产、销售为一体的江苏省高新技术企业。

    REC以开发、研制、生产、销售0.5微米-22纳米级微芯片光掩模工艺设备为核心和起点，逐步向硅晶圆设备、高级封装设备、LED设备、太阳能电池设备和零部件等领域发展。REC有防静电洁净室（分为：高纯部件加工区、单项功能测试区、部件存放区和整体设备组装测试区，组装测试区可同时容纳五套设备的组装测试）、加工区（有数控车床、数控铣床、液体颗粒检测仪、气体颗粒检测仪、超声清洗设备、成套专业组装工具、液压起重设备、数字加工中心等）和行政办公区。REC的技术团队涵盖工艺、机械设计、机械加工、电气设计和软件设计，并具备完善的售后服务体系。

    2008年11月，由REC自主研发“130纳米级光掩模清洗设备”，于2009年4月结束调试，进入无锡华润微电子掩模工厂生产线。该设备打破了国外垄断，填补了国内该领域的空白。经检测设备的各项技术指标均已达到国际领先水平，部分技术指标甚至超过国际领先水平。该设备先后被评为“江苏省首台（套）重大装备产品高新技术产品”、“江苏省十大创新产品”、“市十大劳模创新成果奖”。现已有多台光掩模湿法工艺设备分别在中芯国际集成电路制造（上海）有限公司、无锡华润微电子有限公司、中国科学技术大学、深圳清溢光电股份有限公司等国内重要集成电路制造企事业的生产线上使用，并受到一致好评。通过团队成员的共同努力，REC发展迅速，先后承担了国家重大科技专项项目（02专项）、国家科技部国际合作项目、国家科技部中小企业创新基金项目、江苏省中小企业创新资金项目、江苏省国际合作项目等，分别致力于先进光掩模湿法工艺设备的研发与产业化制造。

    目前，REC已与中国科学院微电子研究所、华润微电子掩模工厂、中芯国际、韩国海力士、以色列CI-SEMI公司等多家国内外企事业单位达成合作，共同研究开发光掩模清洗新工艺设备以及微纳加工工艺的设备。同时，REC将在2012年开始研制国际领先的半导体照明LED芯片生产中所涉及的关键湿法工艺和装备，并掌握自主知识产权，为改变我国高端半导体照明LED芯片制造装备与工艺主要依赖进口的现状贡献自己的力量。

REC希望通过与客户的紧密合作及技术的创新，根据客户实际需求，结合自身优势，在相关领域取得更大的发展，大幅度提高设备的性价比，成为客户发展的坚实后盾，为我国的大半导体事业的蓬勃发展争光添彩。

      Established in 2008, Changzhou Ruize Microelectronics (REC) is focusing in advanced wet processing equipments and associated key components. Application areas include leading edge photomasks, integrated circuits, advanced wafer level packaging, LED, MEMS as well as photovoltaic. Solely developed by REC, PMX1000 has been successfully employed in major photomask manufacturing facilities in semiconductor community in china. PMX1000 covers all wet processes for building photomask. Application includes photoresist stripping, final cleaning and glue removing. Addition to wet processing equipment, REC also developed wet process key components, such as perfluoro wet chemical pumps, wet chemical inline heaters and chemical mixing units.

REC commits to work closely with customers to meet their current and future needs.